-شیشه‌های مسی فعلی و راه‌حل‌های تماس برای ذخیره‌سازی انرژی تجاری (BESS)

Sep 27, 2026

پیام بگذارید

برای BESS تجاری و صنعتی، سیستم باسبار DC باید جریان پیوسته بالایی داشته باشد در حالی که oss، افزایش دما، فاصله دی الکتریک و تنش مکانیکی را کنترل می کند. مس با خلوص بالا-C1100 رسانایی الکتریکی بالایی را ارائه می‌کند. سطوح تماس نقره‌ای-مقاومت رابط را کاهش می‌دهند، در حالی که عایق‌های چند لایه و هندسه خمشی کنترل‌شده از برنامه‌های 1000V+ DC پشتیبانی می‌کنند.

 

سیستم اتصال الکتریکی صرفاً یک نوار مسی نیست. یک مونتاژ آماده{1}BESS برای تولید نیاز به انتخاب مواد، تحمل مهر زنی، مقاومت درز، کیفیت جوش، یکپارچگی عایق، بازرسی ابعادی و کنترل کیفیت قابل ردیابی دارد تا در محدوده الکتریکی و حرارتی PCS و معماری باتری باقی بماند.

 

High-Current BESS Copper Busbar

 

 

مسیرهای جریان 1000 ولت + DC BESS به مقاومت و حرارت کنترل شده نیاز دارند

 

سیستم‌های ذخیره‌سازی انرژی تجاری معمولاً شامل قفسه‌های باتری، واحدهای ترکیب‌کننده DC، کنتاکتورهای DC، فیوزها، مدارهای پیش{0}شارژ، رابط‌های PCS و مسیرهای توزیع جریان بالا هستند. هر اتصال مقاومت الکتریکی را معرفی می کند.

 

به همین دلیل است که یک قطعه تماس الکتریکی BESS را نمی توان تنها بر اساس ضخامت اسمی مس ارزیابی کرد. شما باید کل مسیر فعلی، از جمله مواد شینه، رابط تماس، آبکاری، روش اتصال، رابط پیچ، ناحیه جوش و اتلاف حرارتی را در نظر بگیرید.

 

پارامترهای طراحی مسیر فعلی 1000A برای برنامه های IEC 61439 و IEC 60664
مس C1100: معمولاً در جایی انتخاب می شود که رسانایی الکتریکی بالا مورد نیاز است. رسانایی بسته به شرایط مواد می تواند به 100٪ IACS نزدیک شود.
رابط های{0}}نقره ای: برای کاهش مقاومت تماس و بهبود مقاومت در برابر اکسیداسیون در رابط های الکتریکی استفاده می شود.
عایق شینه چند لایه: جداسازی دی الکتریک از زمین را کنترل می کند.
بازرسی ابعادی CMM: موقعیت سوراخ، هندسه خمشی و تلورانس های بحرانی را تأیید می کند.
هماهنگی عایق IEC 60664: چارچوبی را برای ارزیابی ترخیص و خزش فراهم می کند.
مجموعه‌های IEC 61439: مربوط به جایی که سیستم‌های شینه در مجموعه‌های{1} ولتاژ پایین ادغام می‌شوند.


C1100 Copper در مقابل C2680 Brass برای اتصالات ذخیره انرژی بالا{3}}

 

پارامتر C1100 مس خالص برنج C2680
نقش الکتریکی معمولی مسیر جریان اصلی اجزای مکانیکی/الکتریکی
رسانایی تا 100٪ IACS به طور قابل توجهی کمتر از مس خالص است
مقاومت الکتریکی کم بالاتر
برنامه در حال حمل- باسبار، پایانه ها، کانکتورها پایانه ها، براکت ها، سخت افزار مهر شده
شکل پذیری خوب خیلی خوبه
هدایت حرارتی بالا پایین تر
استفاده معمولی از BESS توزیع جریان DC بالا- اجزای سازه/تماس

 

برای یک شینه مسی ذخیره انرژی با جریان بالا، C1100 معمولاً زمانی ترجیح داده می‌شود که مقاومت الکتریکی و افزایش حرارتی بر محدودیت‌های طراحی غالب باشد. C2680 می تواند در جایی که استحکام شکل، مقاومت در برابر سایش یا هندسه مکانیکی تأثیر بیشتری دارد، مناسب باقی بماند.

 

نقره‌ای-واسط‌های C1100 روکش شده مقاومت تماس را کنترل می‌کند زیر بارهای DC + 1000A

 

مس مسیر جریان عمده را فراهم می کند، اما رابط بین دو جزء رسانا می تواند به گلوگاه حرارتی محلی تبدیل شود.

 

اکسیداسیون، فشار تماس ناکافی، آلودگی سطح، مسطح بودن ضعیف و ضخامت آبکاری ناسازگار می تواند مقاومت تماس را افزایش دهد. تحت جریان بالا.

 

3-12 میکرومتر نقره-کنترل آبکاری برای برنامه‌های تماس IEC 60269 و DC

 

برای قطعات تماس الکتریکی BESS، عملیات سطح ممکن است شامل موارد زیر باشد:

آبکاری نقره: معمولاً در{0}رابط تماس الکتریکی با جریان بالا استفاده می‌شود.
لایه زیرین نیکل: بسته به پشته مواد ممکن است به عنوان مانع انتشار استفاده شود.
محدوده پوشش 3-12 میکرومتر: با توجه به الزامات الکتریکی، مکانیکی و محیطی انتخاب شده است.
آبکاری{0}}تأیید ضخامت: با استفاده از پوشش مناسب{1}}تجهیزات اندازه‌گیری ضخامت انجام می‌شود.
تست مقاومت تماس: به جای اینکه صرفاً بر رسانایی مواد تکیه کند، رابط تکمیل شده را ارزیابی می کند.
بازرسی بصری و میکروسکوپی: ناپیوستگی آبکاری، سوختگی، پوسته شدن، ترک‌ها یا زیرلایه در معرض دید را شناسایی می‌کند.

مشخصات آبکاری صحیح باید بر اساس چگالی جریان، نیروی تماس، چرخه های جفت گیری، قرار گرفتن در معرض محیطی و عمر مفید مورد نیاز به جای استفاده از ضخامت جهانی تعیین شود.

 

در-مجموعه‌های تماس با BESS

 

روش عضویت مزیت اصلی ریسک فرآیند اصلی برنامه معمولی
در-پرچ کردن تکرارپذیری بالا و زمان چرخه کوتاه ارتفاع پرچ و قوام گیره با مجامع تماس بگیرید
لحیم کاری نقره مقاومتی اتصال متالورژیکی رسانا کنترل لایه ورودی و لحیم کاری{0}} مجموعه های مس/تماس
جوش لیزری ورودی حرارت موضعی انعکاس و نفوذ جوش ساختارهای مس-مس یا مس{1}}
اتصال پیچ و مهره ای مفصل قابل سرویس شل شدن گشتاور و مقاومت رابط نصب شینه

 

برای حجم‌های تولیدی که نیاز به هندسه تماس تکرارپذیر دارند، در قالب پرچ کردن، شکل‌گیری و پیوستن اجزا به یک دنباله مهر زنی کنترل‌شده را ادغام می‌کند. برای اتصالات رسانای دائمی، لحیم کاری نقره مقاومتی می تواند یک اتصال متالورژیکی را زمانی که فاصله اتصال، دما، توزیع پرکننده و وضعیت سطح کنترل می شود، ایجاد کند.

 

درخواست ارزیابی و نقل قول رایگان DFM

Metallographic cross-section of silver contact riveted to copper BESS electrical contact component

 

شینه های چند لایه برای عایق 1000 ولت + DC و اندوکتانس کنترل شده

 

یک میله مسی معمولی ظرفیت جریان را فراهم می کند اما به طور ذاتی عایق، جفت الکترومغناطیسی یا هندسه نصب را حل نمی کند.

 

یک شینه چند لایه لایه های رسانا را با یک سیستم دی الکتریک عایق ترکیب می کند. در محیط های سوئیچینگ فرکانس بالا، کاهش سطح حلقه هادی نیز می تواند اندوکتانس انگلی را کاهش دهد.

 

برای معماری‌های PCS با سوئیچینگ سریع-، یک ساختار چند لایه فشرده می‌تواند از اندوکتانس سرگردان کمتری پشتیبانی کند. در طراحی‌های{2}}الکترونیکی توانا، اهداف مهندسی ممکن است به آنها برسد<10 nH stray inductance, but the actual value depends on conductor spacing, geometry, length, dielectric structure, and measurement method.

 

طراحی باسبار چند لایه 1000V+ DC تحت استاندارد IEC 60664 و UL 94 V-0

متغیرهای کلیدی طراحی عبارتند از:

ضخامت هادی: با جریان پیوسته، جریان پیک، افزایش دما و افت ولتاژ مجاز تعیین می شود.
ضخامت عایق: با توجه به ولتاژ کاری، قدرت دی الکتریک، خزش، فاصله و شرایط محیطی انتخاب می شود.
مقاومت دی الکتریک: برخی از سیستم های عایق مهندسی شده می توانند از 15 کیلو ولت بر میلی متر تجاوز کنند، مشروط به درجه مواد و روش آزمایش.
UL 94 V-0: قابل استفاده در مواردی که عملکرد پلیمر ضد شعله مشخص شده است.
فاصله خزش: تحت تأثیر درجه آلودگی، گروه مواد، ولتاژ عملیاتی و محیط نصب.
شعاع خمش: باید از ترک خوردگی مس، آسیب عایق و تنش مکانیکی باقیمانده جلوگیری کند.


پوشش پودری اپوکسی در مقابل حرارت-عایق انقباض برای شین های 1000 ولت DC+

 

پارامتر پوشش پودری اپوکسی گرما-لوله کوچک
پوشش عایق پوشش منسجم لوله ای
هندسه پیچیده وقتی فرآیند پوشش کنترل می شود خوب است محدود به هندسه لوله
پوشش لبه وابسته به فرآیند می تواند محدودیت های هندسه محلی را ترک کند
حفاظت مکانیکی بالا متوسط
کنترل ضخامت با فرآیند پوشش کنترل می شود با مشخصات لوله تعیین می شود
اتوماسیون-حجم بالا مناسب است مناسب است
گزینه UL 94 V-0 برای مواد مشخص شده موجود است برای مواد مشخص شده موجود است
برنامه شینه های چند لایه/خم شده و قطعات شکل گرفته هادی های مستقیم یا نسبتا پیچیده

 

برای شینه های BESS شکل گرفته، ضخامت پوشش باید در اطراف سوراخ ها، گوشه ها، خم ها و رابط های ترمینال کنترل شود. پوشش بیش از حد می تواند با تحمل مونتاژ تداخل داشته باشد، در حالی که پوشش ناکافی می تواند حاشیه دی الکتریک را کاهش دهد.

 

1000V+ laminated copper busbar with controlled epoxy insulation around bends and terminal holes

 

 

مهر زنی دقیق مس تحت کنترل IATF 16949 و PPAP سطح 3

 

عملکرد الکتریکی یک شینه مسی BESS به شدت به سازگاری ابعادی بستگی دارد.

 

یک جزء مهر زنی با موقعیت سوراخ نادرست می تواند استرس مونتاژ را ایجاد کند. ارتفاع بیش از حد سوراخ می تواند به عایق آسیب برساند یا خطر ترخیص الکتریکی ایجاد کند. انحراف خمشی می تواند شینه را در مقابل یک محفظه یا هادی مجاور تغییر دهد.

 

± 0.01 میلی متر کنترل ابعادی با CMM و مهر زنی پیشرونده

یک فرآیند مهر زنی کنترل شده باید به موارد زیر توجه داشته باشد:

تحمل ابعاد بحرانی ± 0.01 میلی متر، در صورت نیاز با قابلیت ترسیم و فرآیند.
مهر زنی پیشرونده قالب: عملیات خالی کردن، سوراخ کردن، شکل دهی، خم شدن و سایر عملیات را ادغام می کند.
نظارت بر سایش ابزار: از تغییر ابعاد پیشرونده در طول دوره های تولید طولانی جلوگیری می کند.
کنترل ارتفاع بر-: خطر آسیب مونتاژ و عایق را کاهش می‌دهد.
بازرسی CMM: هندسه سه بعدی-در برابر داده‌های CAD/طراحی را تأیید می‌کند.
نظارت بر SPC: انحراف فرآیند را قبل از انباشته شدن دسته‌های ناسازگار شناسایی می‌کند.
PPAP سطح 3: از تأیید مشتری با اسناد ابعادی، مواد، فرآیند و قابلیت پشتیبانی می کند.


عیوب مهر زنی و خمش مس که بر اتصالات الکتریکی BESS تأثیر می گذارد

نقص علت معمولی اثر مهندسی روش کنترل
فرز بیش از حد سایش ابزار یا فاصله نادرست آسیب عایق نگهداری قالب + بازرسی
سوراخ-انحراف موقعیت بی نظمی مرگ تداخل مونتاژ CMM SPC
ترک خوردگی مس کرنش تشکیل بیش از حد خرابی الکتریکی/مکانیکی بهینه سازی شعاع خم-
بازگشت بهار وضعیت مواد و ابزار ناهماهنگی ترمینال غرامت در مرگ
خراش های سطحی جابجایی مواد عیوب آبکاری/پوشش جابجایی محافظ
کجی استرس تشکیل ناهموار تماس مونتاژ ضعیف بازرسی صافی

 

برای زنجیره‌های تأمین{0}ذخیره‌سازی خودرو و انرژی، تأیید فرآیند نباید در اولین-نمونه مقاله متوقف شود. طرح کنترل باید ویژگی های ترسیم را به ابزار، فرکانس بازرسی، طرح واکنش و قابلیت ردیابی متصل کند.

 

دانلود مشخصات طراحی شینه

 

جوشکاری لیزری مس-جوشکاری با انتشار مولکولی و آلی برای اتصالات با مقاومت پایین{1}}

 

مسیرهای فعلی BESS به دلیل وزن، هزینه و الزامات معماری سیستم، به طور فزاینده ای مس و آلومینیوم را ترکیب می کنند. اتصال فلزات غیر مشابه محدودیت‌های متالورژیکی اضافی را ایجاد می‌کند.

 

مس دارای رسانایی حرارتی بالا و بازتابش بالا در طول موج های معمول لیزر است. آلومینیوم دارای نقطه ذوب، هدایت حرارتی و ضریب انبساط حرارتی متفاوتی است. گرمای ورودی بیش از حد می تواند ترکیبات بین فلزی یا نقص در منطقه انتقال ایجاد کند.

 

جوشکاری لیزر مس-Al تحت کنترل حرارت ورودی و بازرسی متالوگرافی

یک پنجره جوشکاری تولید باید کنترل کند:

قدرت لیزر
سرعت جوش
قطر پرتو
موقعیت کانونی
گاز محافظ
شکاف مشترک
وضعیت سطح
همپوشانی مس-به-آلومینیوم
نفوذ جوش
منطقه تحت تأثیر گرما-
تشکیل لایه بین فلزی

هدف فقط ظاهر جوش بصری نیست. متالوگرافی مقطعی- باید نفوذ، مشخصات همجوشی، تخلخل، ترک خوردگی و وضعیت رابط مس-Al را تأیید کند.

 

Cu{0}}جوشکاری با لیزر آل در مقابل جوشکاری انتشار مولکولی

 

پارامتر جوش لیزری مس-Al جوشکاری انتشار مولکولی
ورودی گرما محلی شده است فرآیند فشار/حرارت کنترل شده
هندسه مشترک انعطاف پذیر به سطوح تماس مناسب نیاز دارد
سرعت تولید پتانسیل بالا وابسته به فرآیند
کنترل فلزی-غیر مشابه نیاز به گرمای شدید{0}}پنجره ورودی دارد کنترل رابط قوی
بازرسی متالورژی مقطع- مورد نیاز است بازرسی رابط مورد نیاز است
استفاده معمولی ساختار باتری / ترمینال انتقال‌های رسانا{0}}با قابلیت اطمینان بالا

 

برای مجموعه‌های DC جریان بالا، مقاومت مفصل باید روی قطعه تکمیل‌شده اندازه‌گیری شود. یک جوش قابل قبول بصری شواهد کافی برای عملکرد الکتریکی نیست.

 

قطعات تماس برقی BESS قفسه‌های باتری، کنتاکتورهای DC و PCS را به هم متصل می‌کنند

 

یک سیستم ذخیره سازی انرژی تجاری شامل چندین نقطه اتصال الکتریکی و مکانیکی متفاوت است.

 

اجزای معمولی عبارتند از:

باسبار مسی ذخیره انرژی: DC بالا را بین ماژول های باتری، رک ها، کنتاکتورها، فیوزها و PCS توزیع می کند.
شینه چند لایه: هدایت جریان و عایق کنترل شده را در یک ساختار فشرده ترکیب می کند.
ذخیره انرژی جزء کنتاکتور DC: شامل پایانه های رسانا، حامل های مسی، اجزای مغناطیسی/ساختاری و مجموعه های تماسی است.
کانکتور مسی انعطاف پذیر: تحمل نصب و جابجایی مربوط به ارتعاش-را جذب می کند.
قطعه مهر زنی دقیق مس: پایانه ها، براکت ها، پیوندهای رسانا و اجزای الکتریکی ساختاری را فراهم می کند.
مجموعه تماس نقره ای: رابط الکتریکی را در دستگاه های سوئیچینگ کنترل می کند.

مشخصات مهندسی باید نقش الکتریکی هر جزء را به جای اعمال یک مشخصات شینه مسی عمومی برای سیستم کامل تعریف کند.

 

ماتریس اتصال الکتریکی BESS تحت استانداردهای IEC 60664 و IATF 16949

 

موقعیت سیستم نیاز اولیه مواد/فرآیند معمولی
اتصال ماژول باتری مقاومت کم + هندسه فشرده مهر زنی/خم شدن C1100
باس DC رک جریان بالا + کنترل حرارتی شینه مسی C1100
ترمینال کنتاکتور DC مقاومت رابط کم آبکاری مس + نقره
ورودی DC PCS ظرفیت فعلی + عایق شینه چند لایه
اتصال فیوز مقاومت کم + حفظ مکانیکی مس/برنج مهر شده
اتصال انعطاف پذیر جذب ارتعاش مس چند لایه / انعطاف پذیر
توزیع کابینه فاصله الکتریکی + سفتی مکانیکی شینه تشکیل/عایق

 

کنترل کیفیت تامین کننده BESS: تست CMM، مقاومت، دی الکتریک و انفجار

 

برای تامین‌کننده قطعات ذخیره‌سازی{0} انرژی، بازرسی ابعادی و گواهی مواد تنها بخشی از سیستم کیفیت است.

 

یک طرح کنترل تولید باید مواد ورودی، مهر زنی، جوشکاری، آبکاری، عایق، مونتاژ و آزمایش نهایی را به هم مرتبط کند.

 

نقاط کنترل تولید IATF 16949 و ISO 14001
IATF 16949: مدیریت کیفیت فرآیند برای محیط‌های تولید مرتبط-خودرو.
ISO 9001: مدیریت کیفیت و کنترل فرآیند مستند.
ISO 14001: الزامات سیستم مدیریت زیست محیطی
بازرسی CMM: تأیید سه بعدی-.
آبکاری{0}}آزمایش ضخامت: ضخامت سطح مشخص شده-درمان را تأیید می‌کند.
تست مقاومت تماس-: عملکرد رابط الکتریکی را تأیید می کند.
تست مقاومت دی الکتریک: یکپارچگی عایق را ارزیابی می کند.
تست مقاومت عایق: مسیرهای نشتی را تشخیص می دهد.
تست فشار ترکیدگی: در مواردی که مشخص شده است برای سازه‌های مربوط به فشار-حاوی باتری یا خنک‌کننده- قابل استفاده است.
PPAP سطح 3: تولید ساختارمند-مستندات تأیید بخشی را ارائه می‌کند.


توالی اعتبار سنجی مؤلفه BESS معمولی

 

بررسی مواد ← بازرسی مهر ← بازرسی جوش ← تایید آبکاری ← بازرسی عایق ← CMM ابعادی ← تست مقاومت الکتریکی ← تست دی الکتریک ← بازرسی مونتاژ نهایی ← مستندات PPAP

 

دنباله باید با مولفه واقعی و طراحی مشتری تطبیق داده شود. هر گذرگاهی به هر آزمایشی نیاز ندارد.

 

CMM inspection and electrical testing of precision copper BESS busbar components

 

 

چک لیست مشخصات مهندسی برای تولید OEM شینه مسی ذخیره انرژی

 

قبل از شروع ابزار، نقشه مشتری باید پارامترهایی را که مستقیماً بر عملکرد الکتریکی، حرارتی، مکانیکی و عایق تأثیر می‌گذارند، تعریف کند.

 

ترسیم داده های مورد نیاز برای بررسی سطح 3 IEC 60664 و PPAP
مواد: C1100، C10200، C2680، آلیاژ آلومینیوم، یا درجه مشخص شده توسط مشتری.
هدایت مس: مقدار هدف یا نیاز IACS.
ضخامت: ضخامت و تحمل اسمی مواد.
آبکاری: نقره، نیکل، قلع یا سایر عملیات سطحی.
ضخامت آبکاری: محدوده مشخص و روش اندازه گیری.
ابعاد بحرانی: تحمل مانند ± 0.01 میلی متر در صورت لزوم.
زاویه خمش: تلورانس و مرجع مبنا.
قطر سوراخ: تحمل و تحمل موقعیت.
صافی: حداکثر انحراف مجاز.
ارتفاع سوراخ: حداکثر مقدار مجاز.
عایق: مواد، ضخامت، نیاز دی الکتریک و درجه شعله.
ولتاژ کاری: شامل شرایط پیوسته و گذرا.
ولتاژ تست: نیاز به مقاومت دی الکتریک
مقاومت تماس: حداکثر مقدار مجاز در صورت لزوم.
الزامات جوشکاری: نفوذ، هندسه اتصال، و معیارهای پذیرش متالوگرافی.
بسته بندی: حفاظت از سطح و الزامات ضد اکسیداسیون-.
قابلیت ردیابی: لات، مواد، ابزار، فرآیند و سوابق بازرسی.

یک نقشه مهندسی واضح، تفسیر را در طول DFM، طراحی ابزار، تایید نمونه و تولید انبوه کاهش می دهد.

 

از نمونه اولیه تا تولید انبوه: ابزار، نمونه های T1 و PPAP سطح 3

 

مسیر تولید یک جزء مسی دقیق معمولاً از طریق بررسی مهندسی، DFM، ابزارسازی، نمونه‌برداری T1، تصحیح ابعاد، اعتبارسنجی فرآیند و PPAP پیش می‌رود.

 

نمونه T1 و جریان تولید سطح 3 PPAP


بررسی نقشه - الزامات الکتریکی، مکانیکی، مواد، تحمل و بازرسی مشخص شده است.
تجزیه و تحلیل DFM - جهت مهر زنی، توالی خم، استفاده از مواد، جهت سوراخ، و ساختار ابزار بررسی می‌شود.
ایستگاه های شکل دهی طرح پیش رونده قالب - بر اساس هندسه مورد نیاز چیده شده اند.
نمونه‌برداری T1 - بخش اولیه برای ارزیابی ابعادی و عملکردی تولید می‌شود.
اصلاح ابزار - برگشت فنری و انحرافات ابعادی جبران می شود.
اعتبار سنجی فرآیند - پارامترهای مهر زنی، جوشکاری، آبکاری و عایق قفل هستند.
تأیید قابلیت - ابعاد حیاتی با استفاده از SPC/CMM نظارت می‌شود.
اسناد ارسالی سطح 3 PPAP - از تأیید تولید مشتری پشتیبانی می کند.
تولید انبوه - پارامترهای تایید شده به شرایط تولید کنترل شده تبدیل می شوند.

 

برای مهر زنی مسی با حجم بالا، عمر ابزار باید از طریق ضخامت واقعی مواد، سختی آلیاژ، سرعت ضربه، فاصله برش، بار تشکیل، روغن کاری، و داده های نگهداری به جای استفاده از یک شماره چرخه جهانی پشتیبانی نشده تعیین شود.

 

ماتریس انتخاب مهندسی برای اتصالات فعلی BESS تجاری

 

معماری اتصال{0}}جریان صحیح به جریان، ولتاژ، فضای نصب موجود، محدودیت‌های حرارتی، فرکانس سوئیچینگ، الزامات عایق و روش مونتاژ بستگی دارد.

 

500A–1000A+ انتخاب باسبار BESS تحت IEC 60664 و UL 94 V-0

 

الزامات طراحی جهت توصیه شده بررسی مهندسی اصلی
DC پیوسته بالا شینه مسی C1100 افزایش دما + افت ولتاژ
اتصال PCS فشرده شینه چند لایه اندوکتانس + عایق
رابط سوئیچینگ-جریان بالا مونتاژ مسی/تماسی با روکش نقره- مقاومت تماسی
انتقال مس-Al جوشکاری لیزری یا اتصال با انتشار رابط متالوگرافی
هندسه سه بعدی پیچیده مهر زنی دقیق + شکل دهی بازگشت فنری CMM
نیاز دی الکتریک بالا سیستم عایق اپوکسی مقاومت دی الکتریک
تولید-با حجم بالا مهر زنی پیشرونده عمر ابزار + SPC
تأیید رتبه-خودرو فرآیند IATF 16949 PPAP سطح 3

 

برای یک سیستم اتصال الکتریکی کامل BESS، هدایت مواد، مقاومت اتصال، عملکرد عایق، تحمل مکانیکی و رفتار حرارتی باید با هم ارزیابی شوند.

 

آنچه که یک تولید کننده شینه مسی واجد شرایط BESS باید ارائه دهد

 

یک تامین کننده تولید باید بتواند مشخصات مهندسی را به کنترل های تولیدی قابل اندازه گیری متصل کند.

 

IATF 16949 و PPAP سطح 3 عرضه کننده قابل تحویل
گواهی مواد برای بسترهای مس و آلیاژ
مشخصات آبکاری و سوابق ضخامت
بازخورد پیشرونده و ابزار DFM
نمونه گزارش ابعادی T1
داده های بازرسی CMM
پارامترهای فرآیند جوشکاری
در صورت لزوم، گزارش‌های مقطع- یا متالوگرافی را جوش دهید
تماس با داده‌های تست مقاومت-
سوابق تست مقاومت دی الکتریک
نتایج مقاومت{0}}عایق
سوابق SPC و قابلیت برای ویژگی های بحرانی
مستندات سطح 3 PPAP
قابلیت ردیابی تولید
سوابق اقدامات اصلاحی-برای قطعات ناسازگار

 

برای Apollo Electronic Components (Xiamen) Co., Ltd.، محدوده تولید می تواند مهر زنی فلزی دقیق، اجزای مسی، مجموعه های تماس الکتریکی، جوشکاری، عملیات سطح، و برنامه های کاربردی اتصال الکتریکی با ولتاژ بالا/جدید- را پوشش دهد. این گذرگاه و اجزای تماس مرتبط را قادر می‌سازد تا به‌عنوان یک سیستم مسیر فعلی بررسی شوند نه به‌عنوان بخش‌های مهر شده جدا شده.

 

سوالات متداول

 

تأیید سطح 3 PPAP برای شینه مسی BESS چقدر طول می کشد؟

جدول زمانی به پیچیدگی ابزار، نتایج نمونه T1، الزامات اسناد مشتری و آزمایش اعتبار بستگی دارد. یک پروژه معمولی از طریق DFM، ابزارسازی، نمونه‌برداری T1، تصحیح ابعادی، اعتبارسنجی فرآیند و ارسال PPAP ادامه می‌یابد.

 

چه مواد مسی برای 1000A+ مناسب استشینه مسی ذخیره انرژی?

مس با خلوص بالا-C1100 معمولاً برای شین‌های-جریان بالا به دلیل رسانایی الکتریکی و هدایت حرارتی بالا انتخاب می‌شود. انتخاب نهایی به جریان، افزایش دما، هندسه، الزامات مکانیکی و عملیات سطح بستگی دارد.

 

چگونه ضخامت آبکاری نقره بر روی قطعات تماس الکتریکی BESS تأیید می شود؟

ضخامت روکش نقره با استفاده از روش اندازه گیری ضخامت پوشش مناسب تأیید می شود و در محدوده مشخص شده ثبت می شود. آزمایش مقاومت تماسی باید علاوه بر این، رابط الکتریکی تکمیل شده را تأیید کند.

 

با ما تماس بگیرید


Ms Tina from Xiamen Apollo

ارسال درخواست